PLANERLITE
以高纯度，高加工效率，高分散，无划伤为理念，开发出了CMP用抛光液“PLANERLITE”。
支持能够高效研磨多层配线的晶圆的高水平表面加工。
| 产品名称 | 应用和内容 |
|---|---|
| PLANERLITE 4000系列 | 氧化膜用抛光液 |
| PLANERLITE 5000系列 | W用抛光液 |
| PLANERLITE 6000系列 | Poly-Si用CMP抛光液 |
| PLANERLITE 6500系列 | Poly-Si膜的颗粒除去用清洗抛光液 |
| PLANERLITE 7000系列 | Cu用抛光液 |
| PLANERLITE 8000系列 | Cu/Ta及其他阻挡膜研磨用抛光液 |
其他产品
FUJIMI提供和开发满足各种需求的抛光液。欢迎垂询。
| 目的 | 产品名称，提供内容 |
|---|---|
| HHKMG（High-k/Metal gate 高介电常数膜/金属栅极用 |
关于左侧所述的最先进的设备技术，我们也可根据客户的要求，及时开发和提供最佳的抛光液方案。 详情请咨询我们。 |
| FinFET 三维晶体管用 |
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| TSV（through-silicon via）Si贯通电极用 | |
| 树脂研磨用抛光液 | |
| 新材料（III-V族半导体用，Co，SiC，Si-Ge研磨用等） |
